我们的UV-LED曝光解决方案提高了先进封装工艺的效率
宽频带步进式曝光机系统、也称为1X步进式曝光机或微型步进式曝光机、其在扇出晶圆级封装(FOWLP)、晶圆级芯片规模封装(WLCSP)或硅通孔(TSV)等先进封装应用中发挥着重要作用。高度专业化的步进式曝光机设备可用于制造微机电系统或LED这样复杂的微结构。
如果您想将步进式曝光机升级到UV-LED照度、我们的宽频带UV-LED光源 ALE/1 和 ALE/1C 是完美的选择。通过采用我们的解决方案、您可以灵活地选择工作流程中可能需要的先进感光封装材料。
我们的独特设置是:我们将i线、h线和g线周围的单个LED模块组合成一条光路、使您能够完全控制350-450nm范围内的宽频带曝光光谱。我们提供的辐射输出较高、因此您可以更换任何高达1kW甚至更高的传统高功率汞弧灯、且换灯时无需处理汞废物且无需停机。
将Primerite的ALE/1 UV-LED曝光装置集成到步进式曝光机中、就可以将最终分辨率降至1µm甚至亚微米范围。此外、我们的稳定且高度可靠的UV-LED照射单元能够以较低的拥有成本、提供卓越的系统吞吐量。
全功率i线、h线和g线
许多光刻应用依赖于宽频带曝光、包括i线、h线和g线(365/405/435nm)辐射。我们设计了ALE/1 UV-LED光源、以提供非常相似的光谱输出。这样、在将现有的光刻工艺升级到UV-LED曝光时、所需的调整较少。

除了宽频带UV-LED曝光装置、我们还提供单峰波长(365nm)或双峰波长(365/405nm和405/435nm)的配置。
将我们的ALE/1平台与汞弧灯进行比较
目前、ALE/1C能够提供高达50W的宽频带曝光。我们的光导耦合系统ALE/1可提供的曝光高达30W
辐射输出(W) | 宽频带 | i线 |
(350-470 nm) | (350-385 nm) | |
Primelite的UV-LED光源 | ||
ALE/1C(w/外部冷却) | 50 | 22 |
ALE/1C(标品) | 40 | 18 |
ALE/1.3 | 27 | 10 |
汞弧灯 | ||
1000W型 | 37 | 18 |
500W型 | 19 | 9 |
将ALE/1和ALE/1C UV-LED照射单元集成到步进式曝光机中
我们的UV-LED曝光解决方案取代了基于汞放电灯技术的传统光源。有两种不同的设计可供选择:
- 我们的光纤耦合系统 ALE/1、其特点是将柔性液体光导耦合到宽频带步进式曝光机的集成光学器件中。
- 我们的内置解决方案 ALE/1C、使用了分布式设计方法将控制子系统(CSS)与曝光子系统(ESS)分开。
这两个系统都可以定制、以完美匹配您的步进式曝光机。此外、也可以进行改装、即替换现有系统中的传统光源。

超快速切换、实现最高精度
我们的UV-LED曝光设备的切换时间(0至100%)低于1毫秒。此外、内部闭环反馈控制系统保证在短曝光周期和长曝光周期内恒定的辐射输出。因此、仅需使用计时器即可在短短50毫秒的内实现±0.2%的剂量精度。曝光周期越长(例如、300毫秒)、实现的精度就越高。
亮点——为什么ALE / 1和ALE / 1C专为步进式曝光机而设计
- 单点UV-LED光源、易于集成
- 辐射输出稳定、精确、一致、强度高
- i线,h线和g线(350-450nm)的灵活多光谱覆盖,无需过滤器
- UV-LED技术的使用寿命长且具有总拥有成本优势
- 与放电灯不同、操作安全性得到改进
- 无需大量的冷却(例如、没有氮气或CDA)
- 不需要机械快门(切换时间快速、低于1毫秒)