我们的UV-LED光源升级用于光掩模和掩模版检查

光掩膜和中间掩膜检查系统通常将先进的光学器件与单光谱或多光谱光源相结合、以识别大型光掩膜的缺陷或污染情况。如果您正在寻找一种强大而灵活的UV-LED解决方案来替代传统的汞弧灯技术、我们的光纤耦合曝光系统 (ALE/1) 是您的完美选择。



单波长和多波长设置

其他UV-LED光源仅提供单光谱输出(如385nm)、但我们的UV-LED曝光系统可以为您提供最大的灵活性、您可以生成完全定制的宽频带光谱输出。

您可以选择ALE/1.3系统、它具有汞弧灯的经典i线、h线和g线峰值波长(365/405/435nm)。此外、还有单波长和双波长设置。NUV光谱范围可以由任何蓝色和绿色组分来补充、因为我们的 ALE/1 UV-LED光源可以将最多5个单独的发射极组合到一个光路中。



液体光导实现最高的集成灵活性

光掩膜检查设备可能必须处理非常大的基板。使用我们的光纤耦合解决方案、您可以不受移动性或光源在机器中位置的限制。一些现有的装置使用高达20m的光导。更多信息请参见 Primelite 性能光学器件



卓越的工艺稳定性

我们的闭环反馈控制系统、可以在短期和长期内保持辐射输出恒定。这意味着、在曝光周期的开始和结束时、以及各个曝光周期之间、检查结果的准确性和一致性都保持最高。



亮点——为什么ALE / 1专为光掩膜检查而设计

  • 光纤耦合UV-LED光源、可以增强灵活性
  • 辐射输出稳定、精确、一致、强度高
  • i线,h线和g线(350-450nm)的灵活多光谱覆盖,无需过滤器
  • 可以集成额外的波长(蓝色、绿色、红色)
  • UV-LED技术的使用寿命长且具有总拥有成本优势
  • 不需要机械快门(切换时间快速、低至1毫秒)