我们正在掩模对准器、步进式曝光机和其他光刻设备中、逐步用UV-LED技术取代传统的汞放电灯。

半导体行业广泛利用NUV光谱范围(i线365nm、h线405nm和g线436nm)内的大功率辐射、在光刻工艺中制造复杂的微结构。光刻技术主要用于生产集成电路(IC)、液晶显示器(LCD)、印刷电路板(PCB)或微机电系统(MEMS)。

半导体制造过去一直采用放电灯技术光源、不过目前已经呈现出了逐步摆脱传统放电灯技术的明显趋势。现在、集成Primelite的先进UV-LED光源作为子系统、有助于改造或设计新的UV-LED曝光制造设备。

Primelite的先进UV-LED光源特别适用于以下半导体制造: